6月19日資金流向一覽（光學(xué)概念股票）

　　光學(xué)概念股票6月19日資金凈流入情況來看，晶方科技位列第一位，主力凈流入達(dá)到2.82億元；立訊精密排名第二，主力凈流入為2.11億元；精測(cè)電子排名第三，主力凈流入3791.28萬元。主力凈流入排名前10的還有：長(zhǎng)陽科技、思特威、合力泰、福光股份、大東南、隆利科技、美迪凱。

　　光學(xué)概念股票6月19日資金凈流出情況來看，韋爾股份位列第一位，主力凈流出達(dá)到-1.52億元；歐菲光排名第二，主力凈流出為-8153.1萬元；水晶光電排名第三，主力凈流出-4552.65萬元。主力凈流出排名前10的還有：石英股份、斯迪克、福晶科技、工業(yè)富聯(lián)、兆威機(jī)電、菲利華、宇瞳光學(xué)。

　　數(shù)據(jù)僅參考，不構(gòu)成投資建議，據(jù)此操作，風(fēng)險(xiǎn)自擔(dān)。